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福潤德PECVD設(shè)備

更新時(shí)間0:2024-11-04 信息編號:161nkgb5o6049e 舉報(bào)維權(quán)
福潤德PECVD設(shè)備
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福潤德PECVD設(shè)備
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供應(yīng)商 青島福潤德微電子設(shè)備有限公司 店鋪
認(rèn)證
報(bào)價(jià) 面議
品牌 福潤德
產(chǎn)地 山東
適用工件 平面
關(guān)鍵詞 福潤德,PECVD設(shè)備
所在地 山東青島市城陽區(qū)棘洪灘街道前海西社區(qū)韓海路南端
張琪
򈊡򈊣򈊦򈊠򈊦򈊤򈊢򈊦򈊣򈊨򈊡

產(chǎn)品詳細(xì)介紹

滿足半導(dǎo)體集成電路,電力電子器件,光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積Si O2、Si 3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。 CVD系統(tǒng)性能特點(diǎn):
結(jié)構(gòu)形式:1—4管臥式熱壁型
硅片規(guī)格:2—8英寸硅片(或125×125mm、156×156mm方片)
溫度范圍:300~1100℃
恒溫區(qū)長度及精度:200mm—1000mm(±1℃/24h)
淀積薄膜均勻性:?片內(nèi)±5%????? 片間±5%??????批間±5%
沉積膜厚度:600~15000A
系統(tǒng)極限真空度:優(yōu)于1Pa
工作壓力范圍:20~133Pa閉環(huán)控制
控制方式:工業(yè)微機(jī)
送料裝置:懸臂推拉舟、軟著陸系統(tǒng)
淀積薄膜分類:Si 3N4、Si02、PSG、Pply-Si膜
真空泵:羅茨泵、機(jī)械泵
工藝氣路:5路氣/管。VCR接口
40KFIz脈寬調(diào)制AE高頻電源
裝片量:200片/舟

所屬分類:電子產(chǎn)品制造設(shè)備/半導(dǎo)體設(shè)備

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主營產(chǎn)品: 太陽能擴(kuò)散爐,程控高低溫?cái)U(kuò)散爐

青島福潤德微電子設(shè)備有限公司坐落在山東省青島市城陽區(qū)北萬工業(yè)園,交通便利,環(huán)境優(yōu)美,距離流亭國際機(jī)場僅五公里,現(xiàn)有廠房面積2000余平方米,固定資產(chǎn)800萬元,共有員工50余人,工程技術(shù)人員10余人。是一批具有豐富技術(shù)經(jīng)驗(yàn)和敬業(yè)精神的團(tuán)隊(duì)所組成,是我國微電子設(shè)備生產(chǎn)廠家之一,中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)協(xié)會理事單位,在國內(nèi)外享有盛譽(yù),為國家863計(jì)劃做出重大貢獻(xiàn)。

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