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NIE-4000(A)全自動(dòng)IBE離子束刻蝕產(chǎn)品概述:如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,這些金屬的刻蝕無(wú)法在RIE系統(tǒng)中完成。然而ibe離子束刻蝕通過(guò)加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常情況下,..09月26日
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全球及中國(guó)離子束修邊機(jī)市場(chǎng)投資分析及未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)預(yù)測(cè)報(bào)告2025-2031年【報(bào)告編號(hào)】77892【出版日期】2025年9月【交付方式】電子版或特快專遞【報(bào)告價(jià)格】【紙質(zhì)版】:6500 【電子版】:6800 ..10月03日
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服務(wù)范圍半導(dǎo)體材料、有機(jī)小分子材料、高分子材料、有機(jī)/無(wú)機(jī)雜化材料、無(wú)機(jī)非金屬材料。半導(dǎo)體材料微結(jié)構(gòu)分析與評(píng)價(jià),聚焦離子束技術(shù)分析檢測(cè)項(xiàng)目(1)半導(dǎo)體材料元素成分分析:EDS元素分析,..10月03日
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中國(guó)聚焦離子束系統(tǒng)產(chǎn)業(yè)供需調(diào)查分析及發(fā)展?jié)摿φ雇麍?bào)告2019年版 mm&mm鴻**mmm晟&mmm信**mmm合&mmm研**mmm究&mmm院**mmmmmm 【最新修訂】:2019年1月 【出版機(jī)構(gòu)】:鴻..01月18日
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2025-2031全球與中國(guó)TSV刻蝕機(jī)市場(chǎng)現(xiàn)狀規(guī)模與前景戰(zhàn)略分析報(bào)告★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★【全新修訂】:2025年9月【出版機(jī)構(gòu)】:中智信投研究網(wǎng)【內(nèi)容部分有刪減·詳細(xì)可參中智信投研究網(wǎng)出版完..10月03日
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666667.00元鈣鈦礦激光劃線刻蝕機(jī)一、適用范圍適用于高校、科研單位對(duì)鈣鈦礦電池制作工藝與裝備研究。用于實(shí)驗(yàn)室鈣鈦礦太陽(yáng)能電池生產(chǎn)過(guò)程中的膜層刻劃或清除。二、技術(shù)特點(diǎn)◆可根據(jù)不同使用場(chǎng)景與工藝要..10月03日
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及中國(guó)激光切割刻蝕機(jī)行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及未來(lái)趨勢(shì)預(yù)測(cè)報(bào)告2023 -2029年《修訂日期》:2023年5月《出版單位》:鴻晟信合研究網(wǎng)【內(nèi)容部分有刪減·詳細(xì)可參鴻晟信合研究網(wǎng)出版完整信息!】《報(bào)告價(jià)格..10月03日
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蝕刻機(jī),顧名思義,就是通過(guò)化學(xué)反應(yīng)來(lái)將材料表面進(jìn)行刻蝕的機(jī)器。一些特定的材料如玻璃、石英、硅等,都可以通過(guò)蝕刻機(jī)對(duì)其進(jìn)行微米級(jí)別的凹凸加工。 蝕刻機(jī)主要是通過(guò)將待刻蝕的材料用化..09月05日
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310000.00元刻蝕機(jī)是芯片制造過(guò)程中的關(guān)鍵設(shè)備,主要用于在芯片上進(jìn)行微觀雕刻。以下是刻蝕機(jī)的詳細(xì)介紹: 刻蝕機(jī)的原理??涛g機(jī)通過(guò)使用化學(xué)或物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要的材料,以形..09月05日
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等離子清洗機(jī)刻蝕機(jī)KT-S2DQX 在真空腔體里,通過(guò)射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無(wú)序的等離子體,通過(guò)等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面.以達(dá)到清洗目的. 利用等離子清洗機(jī)對(duì)包裝盒..08月29日
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刻蝕機(jī),?也稱為半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備,?是半導(dǎo)體制造過(guò)程中的關(guān)鍵設(shè)備之一,?其重要性凸顯,?地位舉足輕重。?刻蝕是半導(dǎo)體圖案化過(guò)程的核心工藝,?主要用于去除特定區(qū)域的材料以形成微小的結(jié)構(gòu)圖案..08月14日
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23000.00元刻蝕機(jī)是一種通過(guò)化學(xué)或物理手段將某些材料表面局部去除的設(shè)備,從而獲得所需的細(xì)微結(jié)構(gòu)或器件??涛g機(jī)在微電子、納米技術(shù)、生物芯片等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。 刻蝕機(jī)主要通過(guò)在目標(biāo)材料表面進(jìn)行..07月17日
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200000.00元反應(yīng)離子刻蝕(RIE)是一種制造微納米結(jié)構(gòu)的等離子刻蝕技術(shù)。在刻蝕過(guò)程中,低壓等離子體產(chǎn)生了高能離子和自由基,與樣品表面反應(yīng),產(chǎn)生揮發(fā)性的化合物。這些揮發(fā)性化合物從樣品表面抽走后,..07月15日
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31000.00元刻蝕機(jī),也稱為蝕刻機(jī),在電子行業(yè)、半導(dǎo)體制造工藝中得到廣泛應(yīng)用,主要用于將圖案、印刷電路等有機(jī)材料蝕刻成所需形狀,從而制作出微型電路板、集成電路和 MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))等。 刻蝕..07月12日
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刻蝕機(jī),也稱為蝕刻機(jī),在電子行業(yè)、半導(dǎo)體制造工藝中得到廣泛應(yīng)用,主要用于將圖案、印刷電路等有機(jī)材料蝕刻成所需形狀,從而制作出微型電路板、集成電路和 MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))等。 刻蝕機(jī)..07月08日
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600000.00元TE-480刻蝕機(jī)TE-480刻蝕機(jī)TE-480刻蝕機(jī)TE-480刻蝕機(jī)</a>11月29日
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手持式光纖激光打標(biāo)機(jī)?分體式打標(biāo)機(jī) 激光刻蝕機(jī) 億鴻激光50W光纖激光打標(biāo)機(jī) 1、產(chǎn)品配置 設(shè)備型號(hào) HSGQ-50W 產(chǎn)地 激光器 50W光纖激光器 銳科 掃描透鏡 大打標(biāo)范圍110mmX110mm/ 150mm..10月20日
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一、 產(chǎn)品簡(jiǎn)介 工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備自動(dòng)滅火裝置是消防行業(yè)的一個(gè)---發(fā)明。作為一套小型、---且高度的獨(dú)立自動(dòng)滅火系統(tǒng),它可依靠煙感,溫感,以及火焰三種探測(cè)方式對(duì)設(shè)備進(jìn)行火災(zāi)..09月08日
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一、 產(chǎn)品簡(jiǎn)介 工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備自動(dòng)滅火裝置是消防行業(yè)的一個(gè)---發(fā)明。作為一套小型、---且高度的獨(dú)立自動(dòng)滅火系統(tǒng),它可依靠煙感,溫感,以及火焰三種探測(cè)方式對(duì)設(shè)備進(jìn)行火災(zāi)..09月06日
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32000.00元深圳等離子清洗刻蝕機(jī)-材料親水性改善處理機(jī) 應(yīng)用領(lǐng)域: 光學(xué)器件、電子元件、半導(dǎo)體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片01月08日
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