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SN-120 產(chǎn)品說明
SN-120系列甲基磺酸型啞光鍍錫添加劑是我公司綜合樂思，羅門哈斯等進口產(chǎn)品的技術基礎上，結合自主創(chuàng)新，開發(fā)的一款適合于電子元器件的滾、掛鍍的啞光高速鍍錫添加劑，完全滿足歐洲RoHS指令的要求，不含任何受限成分，完全滿足國內(nèi)的環(huán)保要求。本添加劑具有高分散能力、高穩(wěn)定性的特點，可以在很寬的操作溫度范圍內(nèi)，獲得均勻、穩(wěn)定的無光澤純錫鍍層。該工藝的鍍層結構穩(wěn)定，結晶均勻，鍍件長期存放不變色，并能保持良好的可焊性。是目前國內(nèi)好的甲基磺酸型啞光鍍錫添加劑產(chǎn)品之一。
SN-120系列啞光鍍錫工藝的主要優(yōu)勢在于：
1、可允許的操作范圍廣，電流密度范圍（0.5-25A/dm2）便于日常生產(chǎn)操作及維護；
2、鍍層結構穩(wěn)定，結晶均勻，鍍件長期存放不變色，經(jīng)長時間高溫和蒸汽老化試驗或長期存放后，仍能保持啞光色澤和優(yōu)良的焊接性能；
3、鍍液分散性好，特別適用于貼片二極管等各種半導體元器件的滾、掛鍍啞光高速鍍錫；
4、兼容性強，能與之前所使用的美國、臺灣、日本等各型號添加劑兼容，不需另配鍍液。
5、廢水處理容易，腐蝕性低，完全可達到環(huán)保的要求；
6、鍍液配制簡單，且可長年保持穩(wěn)定，操作簡單；
7、消耗量低，SN-120的日常添加量為200-400ml/KA﹒H，日常補充時需另考慮帶出損失量。

一、鍍液組成

成分
單位
范圍
佳值
錫（Sn）
g/L
50-80
60-70
甲基磺酸70%(MSA)
mL/L
130-200
140-160
SN-12劑
mL/L
20-50
20-30

二、工藝操作條件

參數(shù)
單位
范圍
電流密度
A/dm2
0.5-25
鍍液溫度
℃
20℃ - 30℃
陽極面積：陰極面積
2:1
陽極
純錫球或錫板（純度99.9%以上）

三、工藝設備：
1、電鍍槽：所用材料耐酸，建議用PP、PVC等材料，不可使用金屬鍍槽。
2、溫度控制：需要設置適當?shù)睦鋮s設備。
3、攪拌裝置：建議使用泵循環(huán)及陰極移動。
4、過濾器：采用5-8微米的濾芯連續(xù)過濾，濾芯要耐腐蝕，每小時流量應高達總液量的3-5倍。
5、陽極：采用純錫陽極
6、整流器：電流波幅不應超過5%。
7、其他設備：通風設備，安培計等。

四、配槽方法：
1、 經(jīng)清洗干凈的鍍槽中注入2/3的純水；
2、 在緩慢攪拌的情況下，加入定量的70%甲基磺酸；
3、 在緩慢攪拌的情況下，加入定量的甲基磺酸錫濃液；
4、 在緩慢攪拌的情況下，加入定量的SN-12劑；
5、 加純水至工作標準液位，攪拌均勻,
充分攪拌均勻后可進行試鍍。

五、鍍液維護管理：
1、定期取樣分析鍍液中錫和酸的濃度，向鍍液中補加甲基磺酸，將鍍液組成控制在操作范圍之內(nèi)。
2、穩(wěn)定地調控好操作時的溫度、電流密度和攪拌速度，可以獲得外觀一致的鍍層；
3、保持溶液的清潔，防止金屬雜質和其它有機物的進入，定期使用瓦楞型的陰極進行低電流密度（0.1~0.5 A/dm2）電解。如遇有機雜質污染鍍液，加入2-4g/L活性炭連續(xù)過濾4-8小時。切勿混入氯離子，鍍液中氯離子超過0.3g/L，會使鍍層出現(xiàn)晶須及深鍍能力下降。

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