拋光機(jī)操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到大的拋光速率以便盡快除去磨光時產(chǎn)生的損傷層同時也要使拋光損傷層不會影響終觀察到的組織即不會造成假組織前者要求使用較粗的磨料以有較大的拋光速率來去除磨光的損傷層但拋光損傷層也較深后者要求使用細(xì)的材料使拋光損傷層較淺但拋光速率低

解決這個矛盾的好的辦法就是把拋光分為兩個階段進(jìn)行粗拋目的是去除磨光損傷層這一階段應(yīng)具有大的拋光速率粗拋形成的表層損傷是次要的考慮不過也應(yīng)當(dāng)盡可能小其次是精拋或稱終拋其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷

但在相襯照明條件下則仍可見到磨痕拋光機(jī)拋光質(zhì)量的好壞嚴(yán)重影響試樣的組織結(jié)構(gòu)已逐步引起有關(guān)的重視國內(nèi)外在拋光機(jī)的性能上作了大量的研究工作研究出不少新機(jī)型新一代的拋光設(shè)備