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在簡易隔離式偏壓電源設計中，非對稱半橋反激電路是關鍵。它通過同步降壓電路提供隔離電源，類似于同步降壓調節(jié)器的工作原理。輸入電壓驅動的場效應管(FET)驅動電感電容濾波器，隨后通過分壓器和誤差放大器的協(xié)同作用，調整濾波器輸出，保持DC電壓穩(wěn)定。特別之處在于，電感電路中的耦合繞組和二極管設計巧妙地解決了負載電壓調節(jié)的難題，通過二極管的直流電壓調整，提升了負載調節(jié)的精度。如果采用場效應管替代，性能將進一步提升。

總結起來，真空多弧離子鍍膜機的偏壓電源是一個精密調控的系統(tǒng)，它通過復雜的電路設計，確保了離子的加速和沉積過程，從而實現(xiàn)的涂層工藝。無論是直流還是脈沖電源，每一環(huán)節(jié)都對終的鍍膜效果有著至關重要的影響。

離子滲氮：可以在輝光放電條件下，將N、C等元素滲入到零件和模具內部、明顯提高表面硬度、抗疲勞等性能和耐腐蝕性，相對于總體滲氮處理時間短、濕度低、變形小、表面性能可控，可用于各種鋼鐵及鈦合金結構件，各種模具和各種不銹鋼制品。
等離子體化學氣相沉積設備與技術(離子滲氮，氮碳共滲)
等離子體化學氣相沉積（PCVD）是一種新型的脈沖直流等離子體輔助沉積硬質鍍膜新技術。在一定壓力、溫度的真空爐內，加入適當比例的不同工作氣體，在脈沖電壓的作用下，通過輝光放電產生均勻等離子體。在不同工藝條件下，可在被處理工件表面形成各種硬質膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層復合膜等，顯微硬度高達HV2000--2500。

裝飾真空鍍膜設備是蒸發(fā)式鍍膜裝置，在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化，汽化了金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑高反射率的膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。

　　該設備具有：結構合理，膜層均勻、成膜質量好、抽速大、工作同期短、生產、操作方便，能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點。廣泛應用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機、反光杯、化妝品、玩具等行業(yè)。

　　可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PC、PVC、尼龍、金屬、波麗、玻璃、陶瓷、TPU等。

　　鍍制效果有：普通電鍍亮面、啞面（半啞、全?。?、工藝電鍍皺紋、拉絲、雨滴、七彩等；鍍制顏色有：金、銀、紅、藍、綠、紫、七彩等等。