一、技術(shù)概述
多弧離子真空鍍膜(Multi-arc Ion Plating, MAIP)是一種利用電弧放電在靶材表面蒸發(fā)并形成等離子體的物理氣相沉積(PVD)技術(shù)。相比傳統(tǒng)蒸鍍或?yàn)R射技術(shù),多弧離子鍍膜具有沉積速率高、膜層致密、附著力強(qiáng)及材料利用率高等優(yōu)點(diǎn)。針對(duì)塑料材料存在的耐熱極限和表面能低、易變形等問題,我們開發(fā)并優(yōu)化了“低溫”多弧離子鍍膜工藝,確保在不超過塑料基材大耐溫(通?!?20°C)的條件下實(shí)現(xiàn)金屬或復(fù)合功能膜層沉積。